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電(diàn)子(zǐ)廠廢氣處理方法——低溫等離子技術

返回列表 瀏覽(lǎn):- 發布日期:2020-08-27 10:21:48【

電子廠涉及到的行業很(hěn)多,不同行業(yè)在工藝上有一定差異(yì),產(chǎn)生的廢氣種(zhǒng)類也有一定的差異,今天就從半導(dǎo)體行業入手為大家介紹電子廠廢氣處理。電(diàn)子廠半導體廢氣的處理主要針對半導體行業有機廢氣和毒性氣體的治理,芭乐视频APP污(men)嚐試使用低溫等離子廢氣處理技術。半導體(tǐ)行業產生的有機廢氣,主(zhǔ)要可(kě)以分為(wéi),半導體製造工藝產生的有機廢氣,和半導體封裝(zhuāng)工藝產生的有機廢氣。

電子廠廢氣

1、廠(chǎng)家處理有機廢氣和毒氣的處理方法

現(xiàn)在,半(bàn)導體製造過程(chéng)中排(pái)放的含有有機成分的廢(fèi)氣(qì)(voc)通常采用(yòng)直接焚燒、活性炭吸附、生物氧化等方法進行處理。

催(cuī)化燃燒裝置

2、針對電子廠廢氣處(chù)理半導體行業有機廢氣和毒性氣(qì)體的治理,低溫(wēn)等離子廢氣處理技術的淨化原理是:

將普(pǔ)通的220V/380V交流電通(tōng)過變壓(yā)器,變頻器轉換為高頻高壓的電壓,產生足以擊穿氣體的(de)電壓(yā),釋(shì)放出高能電子,高能電子破壞有機廢氣中的(de)氣體分(fèn)子之間的化學鍵,斷開這些化學鍵從而產生了各種碳原子、氧(yǎng)原子、氫原子、氫氧自由基、臭氧等混(hún)合體(tǐ),等離子(zǐ)體中的氧原子和碳原子結(jié)合形成二氧化碳(tàn),氧原子和氫原(yuán)子結合形成水分子,最終產生排放到大氣中的氣體為無汙染的二氧(yǎng)化碳(CO2)和(hé)水(H2O)。

洗滌塔+低溫等離子處(chù)理方案

3、電子廠廢氣處理低溫等離子廢氣處理技術具(jù)有以下優點:


  • 放電產生的低溫等離子體中,電子能量高(gāo),幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作(zuò)用。
  • 反應快,不受氣速限製。
  • 采用防腐蝕材料。
  • 隻需(xū)用電,操作極為簡單。
  • 設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,常溫常壓(yā)下即能使用。
  • 氣阻小,適用於(yú)大(dà)風(fēng)量的廢氣處理。

4、電子廠廢氣(qì)處理低溫等離子廢氣處理技術應用領域:集成電路生產企業、分立器件生產企業、光電組件生(shēng)產(chǎn)企業。


5、半導體(tǐ)企業廢(fèi)氣排放特征分析

半導體(tǐ)行業廢氣排放具有排氣(qì)量大、排放濃度小的特點。

6、半導體行(háng)業有機廢氣和毒氣的來(lái)源


  • 半(bàn)導體製造工藝(yì)產生的揮發性有機廢氣,主要來源於光刻、顯(xiǎn)影、刻蝕及擴散等工序
  • 與半導體製造工藝相比,半導體封裝工藝產生的有機廢氣較為簡單,主要為晶粒粘貼、封膠後烘烤過程(chéng)產(chǎn)生的烘烤廢氣。
  • 含毒氣性廢氣,其來(lái)源為化學氣相沉積、幹蝕刻(kè)機、擴散、離子布值機(jī)及磊晶(jīng)等製程(chéng)時所產生。主要(yào)成分(fèn)是磷化氫等。

電子廠廢氣處理半導體(tǐ)低溫等離子技術(shù),在實際設計中,需要加洗滌塔(tǎ)作為預處理裝置,來攔截粉塵和易溶性的酸堿(jiǎn)廢氣。今天就為大家介紹到這(zhè)裏了,如果您想(xiǎng)要(yào)了解詳(xiáng)細的設計方(fāng)案,可以打電(diàn)話向芭乐视频APP污谘詢:17306171723


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